湖州源沁新材料有限公司测试了纳米氮化硅YQ-S31G可以使阳图PS版耐磨性提高30%,对感光度和分辨率没有影响.由反射密度的损失量评定印版耐磨性,由扫描电镜观察氮化硅纳米粒子在版面的状态.氮化硅质量分数为2%时耐印效果最好,大于2.0%时由SEM观察到团聚现象,印刷力下降.

实验材料：纳米氮化硅YQ-S31G,成膜树脂和光敏剂配，超声波震荡器， 八开晒版机.

步骤：将50nm纳米氮化硅YQ-S31G（1%-2%）质量分数超声波分散在混合溶剂中,再依次投入成膜树脂和光敏剂配制成感光胶,经离心涂布在(砂目Ra=01 65铝版基上干燥后,晒版,显影,磨版.

片中可以看出,纳米Si3N4粉体1.5%质量分数在树脂基体中分散比较均匀,没有发生团聚,并且能很好弥散于树脂基体中,与有机基体具有较好的相容性,有利于提高成膜物的力学性能,增加印版印次.

湖州源沁新材料有限公司在普通阳图PS版感光体系中加入适量的纳米氮化硅YQ-S31G,由磨版后的密度损失观察到纳米氮化硅可以显著提高耐磨性,并且对PS版其他性能没有不良影响.